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Nanoscribe公司创立于2007年,位于德国卡尔斯鲁厄Eggenstein-Leopoldshafen,自德国卡尔斯鲁厄科技研究所(KIT)成立。专门从事制造纳微米尺度3D打印机、特殊光刻胶以及针对特殊应用领域量身订制的制程解决方案。

Nanoscribe以其特殊创新精密三维激光光刻工艺,已经建立在全球市场相关领域的领导地位。其精密3D打印系统的客户遍布于欧洲、亚洲、北美以及澳大利亚。新一代的3D打印系统-Photonic Professional GT以其创新与优越的性能,于2014年二月在美国 旧金山市所举行的光子学界的奥斯卡盛会-Photonic West大会中大放异彩, 在"先进制造"项目评比中被授予了菱镜奖座的肯定。

我们专注服务科学研究与工业研发领域,并针对特定的工业应用,开发量身打造的制程解决方案。

Nanoscribe目前已是欧洲光子工业联盟EPIC的会员,也是光学工艺网Baden-Württemberg Photonics BW成员之一。 Nanoscribe创立了新的微纳制造的标准。其完整的工艺手段,结合了人性化的操作软件与创新的材料, 创造出颠覆性的3D打印工艺, 并呈现出良好的工艺重现性与精益的制程。所有我们的客户都是创新者,他们克服了对一般普通加工技术的依赖,从而在科学研究与新兴市场中,提供宽广的频谱应用领域。

 
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本公司 Nano Precision Corp. 所代理之德国 NanoScribe 公司,提供精巧并且容易操作的 桌上型激光直写系统
可以现行通用的光刻胶,来实现真正的 三维立体纳米结构
另外,我们也自行为三维激光转印技术 (一般普遍称为 激光直写技术) 的需要,而来提供特殊开发的光刻胶产品:
IP-LIP-G 以及 硫系玻璃
最后,我们也提供针对三维高分子模版如何被铸造为金属,或是半导体材料的工艺咨询服务。
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IEEE MEMS 2016
地 点
上海,上海国际会议中心 (中国)
上海浦东滨江大道2727号
日 期
Jan 24-28, 2016
展位号
16
活动网址
http://www.mems2016.org
 
Semicon China 2016
地 点
上海,新国际博览中心 (中国)
上海浦东新区龙阳路2345号
日 期
Mar 15-17, 2016
展位号
3689 (Hall N3)
活动网址
http://www.semiconchina.org/
 
 
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Newsletter (June 2015) Newsletter (May 2015) Newsletter (Feb 2015)
 

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