True 3D Laser Lithography

创立新的微纳制造的标准 , 以完整的工艺手段 , 结合人性化的操作软件与创新材料 , 创造出颠覆性的3D打印工艺 , 并呈现出良好的工艺重现性与精益的制程。

Nanoscribe 产品

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SEMICON China 2017

日 期:3/14~3/16
地 点:上海新国际博览中心
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2016微光刻技术交流会议

日 期:10/25~10/28  (已结束)
地 点:重庆两江云顶大酒店

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CIAMITE 2016中国材料大会

日 期:10/20~10/24  (已结束)
地 点:青岛 国际会展中心
展位号:603
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CPS 2016 中国物理学会秋季学术会议

日 期:9/1~9/4  (已结束)
地 点:北京工业大学 第三教学楼
展位号:1-31
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CSMNT 2016
中国微米纳米技术学会第十八届学术年会

日 期:7/28~7/31  (已结束)
地 点:北京 新疆大厦 北京市海淀区三里河7号
主办单位:中国微纳米技术学会
展位号:19
网址: http://annual2016.csmnt.org.cn

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2016 微纳米加工技术讲习班

日 期:7/11~7/15  (已结束)
地 点:北京 中科院 物理研究所 M楼 234室
主办单位:中国科学院 物理研究所
微加工实验室:http://lmf.iphy.ac.cn/

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Semicon China 2016 (中国半导体设备暨材料展)

日 期:Mar 15-17, 2016  (已结束)
地 点:上海,新国际博览中心(中国) 上海浦东新区龙阳路2345号
展位号:3689 (Hall N3)
活动网址: http://www.semiconchina.org/

Nanoscribe 产品简介

NanoScribe 三维激光直写系统:

是设计来以一般各种商业可用的光刻胶,来实现真实三维立体微米/纳米结构。 这个独特性能:是建构在多重光子吸收的原理。

超短的激光脉冲曝光,预先勾勒出三维立体微纳米结构的轮廓;再经过显影程序,最终获得可自行支撑的立体结构固着于衬底材料上。

以此工艺通常可达到线径尺寸小于 150 纳米 (依照所选用的光刻胶),搭配上特殊用途的显微镜的接物镜与扫描工件载台, 以此方式在 100 x 72 mm² 平面建构高度在 300 微米以上的结构,是几乎可理解的。

欲建构的结构可以一般的 CAD 软件来设计 (可输入文件格式: DXF 、STL), 亦或以 NanoScribe 专门通用的设计语言 (GWL)。 此软件特色为:简易的程序语言,提供所有系统须调整的工艺参数。

材料所产生的差异:

大部分的聚合物,很多的光敏感材料可以做为三维立体激光直写工艺应用。 Nanoscribe 提供深入的工艺知识,以金属、半导体、iO2 铸造成为三维立体微纳米结构。

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核心技术

Nanoscribe 针对光敏材料的 3D 微纳米加工工艺是建构在激光直写的基础上。以非线性光学的双光子吸收工艺流程,针对多种可以 UV 波长感光聚合的树酯,当同时吸收了近红外波长的两个光子,可发生类似的化学反应。对此现象的产生所必需的条件是以超快的激光脉冲产生足够高的光强。典型的模式是激光聚焦在树酯中,再以双光子聚合效应来触发聚焦光班上的树酯。一般 2D 平面以 “ Pixel ” 作为像素基本单位,而在 3D 模拟情况下我们称其像素基本单位为 “ Voxel ” 。

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应用范围

三维激光直写工艺是提供从事科学研究者,自二维空间进入三维空间新领域路径的最适当工具!
在次微米领域里,独特的建构三维结构能力,是一个新的研究潮流,特别是在下列相关领域的研究价值:

光子学
Photonics

光子晶体、超颖材料、激光分布回馈术(DFB Lasers) 光子共振环、绕射光学

微光子学
Micro Optics

微光子学
Micro Optics

微光学器件、整合型光学

微流道技术
Micro Fluidics

生医芯片系统、物质研究开发与分析、三维基础结构 与 微流道通路

生命科学
Life Sciences

生命科学
Life Sciences

细胞外数组结构、干细胞分离术、细胞成长研究、细胞迁移研究, 组织工程

纳米与微米工艺
Nano- and Microtechnology

超细分辨率光学掩膜、壁虎与莲花效应分析

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