本公司所代理之德国 NanoScribe 公司，提供精巧并且容易操作的 桌上型激光直写系统。 可以现行通用的光刻胶，来实现真正的 三维立体纳米结构。 另外，我们也自行为三维激光转印技术 (一般普遍称为 激光直写技术) 的需要，而来提供特殊开发的光刻胶产品： IP-L、IP-G 以及 硫系玻璃。 最后，我们也提供针对三维高分子模版如何被铸造为金属，或是半导体材料的工艺咨询服务。   Newsletter (April 2012)   在 Nanoscribe 最新出刊的 ”新闻与回顾 ”中，我们将提供给您来自我们用户 ETH-Zürich (CH)。 以激光直写仪所制作的~微机械螺旋体~高度影响的应用相关信息。 我们同时也展示升级的系统控制软件 NanoWrite 1.6 版 - 所具有的新特色与改良的方便使用性。 在此最新报告中，您将发现更多有关三维微纳米工艺发展与参展信息。 您可自行下载 PDF 文档或 连结 至此网页 档案下载： Newsletter_April2012.pdf Dip-in Laser Lithography (DiLL)   以 Nanoscribe 创新的 (专利申请中) DiLL 工艺， 激光直写仪用户 - 现在可以建构高度远超过显微物镜工作距离的高分辨率三维纳微米结构。 档案下载： Data_Sheet_DiLL.pdf 重大成果资料库   2012 2011 2010 2009 2008 2007